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Aktiv Normen | Herausgegeben: 15.06.2022
ISO 23170:2022
Surface chemical analysis — Depth profiling — Non-destructive depth profiling of nanoscale heavy metal oxide thin films on Si substrates with medium energy ion scattering
(Analyse chimique des surfaces — Profilage d´épaisseur — Profilage d´épaisseur non destructif de films minces d´oxydes de métaux lourds a l´échelle nanométrique sur des substrats de Si par diffusion d´ions de moyenne énergie)
Verfügbare Sprachen: Englisch
Verfügbare Ausführung: Elektronische PDF, Gedruckt
ab 4 920.40 CZK
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Detailinformationen
Bezeichnung: ISO 23170:2022
Ausgabedatum: 15.06.2022
Seiten: 29
Land: Internationale technische Norm
Wo ist es zu kaufen?
Erhältlich auf www.technormen.deAnnotation
Description / Abstract: This document specifies a method for the quantitative depth profiling of amorphous heavy metal oxide ultrathin films on Si substrates using medium energy ion scattering (MEIS).Populäre Herausgeber
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