Aktivní norma | Vydána: 15.06.2022

ISO 23170:2022

Surface chemical analysis — Depth profiling — Non-destructive depth profiling of nanoscale heavy metal oxide thin films on Si substrates with medium energy ion scattering
(Analyse chimique des surfaces — Profilage d´épaisseur — Profilage d´épaisseur non destructif de films minces d´oxydes de métaux lourds a l´échelle nanométrique sur des substrats de Si par diffusion d´ions de moyenne énergie)

Dostupné jazyky: Anglicky

Dostupné provedení: Elektronické PDF, Tištěné

od 4 920.40 CZK zobrazit na eshopu

Podrobné informace

Označení: ISO 23170:2022

Datum vydání: 15.06.2022

Stran: 29

Země: Mezinárodní technická norma

Kde koupit?

Můžete zakoupit na eshop.normservis.cz

Anotace

Description / Abstract: This document specifies a method for the quantitative depth profiling of amorphous heavy metal oxide ultrathin films on Si substrates using medium energy ion scattering (MEIS).

Populární vydavatelé

celý katalog