Aktívna norma | Vydaná: 15.06.2022

ISO 23170:2022

Surface chemical analysis — Depth profiling — Non-destructive depth profiling of nanoscale heavy metal oxide thin films on Si substrates with medium energy ion scattering
(Analyse chimique des surfaces — Profilage d´épaisseur — Profilage d´épaisseur non destructif de films minces d´oxydes de métaux lourds a l´échelle nanométrique sur des substrats de Si par diffusion d´ions de moyenne énergie)

Dostupné jazyky: Anglicky

Dostupné prevedenie: Elektronické PDF, Tlačené

od 235.00 USD zobraziť na eshopu

Podrobné informácie

Označenie: ISO 23170:2022

Dátum vydania: 15.06.2022

Stránok: 29

Krajina: Medzinárodná technická norma

Kde kúpiť?

Môžete zakúpiť na eshop.normservis.sk

Anotácia

Description / Abstract: This document specifies a method for the quantitative depth profiling of amorphous heavy metal oxide ultrathin films on Si substrates using medium energy ion scattering (MEIS).

Populárna vydavatelia

celý katalóg