Aktiv Normen | Herausgegeben: 03.08.2026

ISO 25164:2026

Physical vapor deposition coatings — Magnetron sputtering deposition of TiAlSiN thin films — Specification
(Revetements obtenus par dépôt physique en phase vapeur — Dépôt de couches minces de TiAlSiN par pulvérisation cathodique magnétron — Spécification)

Verfügbare Sprachen: Englisch

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Detailinformationen

Bezeichnung: ISO 25164:2026

Ausgabedatum: 03.08.2026

Seiten: 6

Land: Internationale technische Norm

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Annotation

Description / Abstract: This document specifies the technical requirements for TiAlSiN thin films deposited by magnetron sputtering. This document is also applicable to the deposition of TiN, TiAlN or TiSiN thin films.

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