ISO 25164:2026 img
Aktívna norma | Vydaná: 03.08.2026

ISO 25164:2026

Physical vapor deposition coatings — Magnetron sputtering deposition of TiAlSiN thin films — Specification
(Revetements obtenus par dépôt physique en phase vapeur — Dépôt de couches minces de TiAlSiN par pulvérisation cathodique magnétron — Spécification)

Dostupné jazyky: Anglicky

Dostupné prevedenie: Elektronické PDF, Tlačené

od 56.50 EUR zobraziť na eshopu

Podrobné informácie

Označenie: ISO 25164:2026

Dátum vydania: 03.08.2026

Stránok: 6

Krajina: Medzinárodná technická norma

Kde kúpiť?

Môžete zakúpiť na eshop.normservis.sk

Anotácia

Description / Abstract: This document specifies the technical requirements for TiAlSiN thin films deposited by magnetron sputtering. This document is also applicable to the deposition of TiN, TiAlN or TiSiN thin films.
Loading
Cookies Cookies

Potřebujeme Váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se Vám mimo jiné mohli ukazovat informace týkající se Vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.

Souhlas můžete odmítnout zde.

Zde máte možnost přizpůsobit si nastavení souborů cookies v souladu s vlastními preferencemi.

Potřebujeme Váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se Vám mimo jiné mohli ukazovat informace týkající se Vašich zájmů.