Cookies
Potřebujeme Váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se Vám mimo jiné mohli ukazovat informace týkající se Vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Aktivní norma | Vydána: 03.08.2026
ISO 25164:2026
Physical vapor deposition coatings — Magnetron sputtering deposition of TiAlSiN thin films — Specification
(Revetements obtenus par dépôt physique en phase vapeur — Dépôt de couches minces de TiAlSiN par pulvérisation cathodique magnétron — Spécification)
Dostupné jazyky: Anglicky
Dostupné provedení: Elektronické PDF, Tištěné
od 1 361.80 CZK
zobrazit na eshopu
Podrobné informace
Označení: ISO 25164:2026
Datum vydání: 03.08.2026
Stran: 6
Země: Mezinárodní technická norma
Kde koupit?
Můžete zakoupit na eshop.normservis.czAnotace
Description / Abstract: This document specifies the technical requirements for TiAlSiN thin films deposited by magnetron sputtering. This document is also applicable to the deposition of TiN, TiAlN or TiSiN thin films.Populární vydavatelé
DIN normy
BS normy
ASTM normy
ISO normy
IEC normy
Copyright © All rights reserved | This template is made with by Colorlib
