Potřebujeme Váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se Vám mimo jiné mohli ukazovat informace týkající se Vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Atomic layer deposition. Chemical characteristics and related process specifications of atomic layer deposition precursors.
Available languages: English
Available design: electronic design (pdf), Print design
Designation: BS ISO 19383:2026
Publication date: 03/06/2026
Pages: 22
Country: British technical standard