Potřebujeme Váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se Vám mimo jiné mohli ukazovat informace týkající se Vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Atomic layer deposition. Chemical characteristics and related process specifications of atomic layer deposition precursors.
Dostupné jazyky: Anglicky
Dostupné prevedenie: Elektronické PDF, Tlačené
Označenie: BS ISO 19383:2026
Dátum vydania: 03.06.2026
Stránok: 22
Krajina: Britská technická norma