Potřebujeme Váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se Vám mimo jiné mohli ukazovat informace týkající se Vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Atomic layer deposition. Chemical characteristics and related process specifications of atomic layer deposition precursors.
Dostupné jazyky: Anglicky
Dostupné provedení: Elektronické PDF, Tištěné
Označení: BS ISO 19383:2026
Datum vydání: 03.06.2026
Stran: 22
Země: Britská technická norma