Potřebujeme Váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se Vám mimo jiné mohli ukazovat informace týkající se Vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Surface chemical analysis. Depth profiling. Non-destructive depth profiling of nanoscale heavy metal oxide thin films on Si substrates with medium energy ion scattering.
Available languages: English
Available design: PDF - Immediate download, Print design
Designation: BS ISO 23170:2022
Publication date: 03/08/2022
Pages: 38
Country: British technical standard