Potřebujeme Váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se Vám mimo jiné mohli ukazovat informace týkající se Vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Surface chemical analysis. Depth profiling. Non-destructive depth profiling of nanoscale heavy metal oxide thin films on Si substrates with medium energy ion scattering.
Dostupné jazyky: Anglicky
Dostupné prevedenie: PDF - okamžité stiahnutie, Tlačené
Označenie: BS ISO 23170:2022
Dátum vydania: 03.08.2022
Stránok: 38
Krajina: Britská technická norma