Potřebujeme Váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se Vám mimo jiné mohli ukazovat informace týkající se Vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Surface chemical analysis. Depth profiling. Non-destructive depth profiling of nanoscale heavy metal oxide thin films on Si substrates with medium energy ion scattering.
Dostupné jazyky: Anglicky
Dostupné provedení: PDF - okamžité stažení, Tištěné
Označení: BS ISO 23170:2022
Datum vydání: 03.08.2022
Stran: 38
Země: Britská technická norma