Potřebujeme Váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se Vám mimo jiné mohli ukazovat informace týkající se Vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Semiconductor devices - Part 1: Time-dependent dielectric breakdown (TDDB) test for inter-metal layers.
(Polovodičové součástky - Část 1: Zkouška časově závislého průrazu dielektrika pro intermetalické vrstvy..)
Dostupné jazyky: Německy
Dostupné provedení: PDF - okamžité stažení, Tištěné
Označení: DIN EN 62374-1:2011-06
Datum vydání: 01.06.2011
Stran: 18
Země: Německá technická norma