Potřebujeme Váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se Vám mimo jiné mohli ukazovat informace týkající se Vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Surface chemical analysis — Secondary-ion mass spectrometry — Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials
(Analyse chimique des surfaces — Spectrométrie de masse des ions secondaires — Dosage des atomes de bore dans le silicium a l´aide de matériaux dopés uniformément)
Dostupné jazyky: Anglicky, Francouzsky
Dostupné provedení: Elektronické PDF, Tištěné
Označení: ISO 14237:2010-ed.2.0
Datum vydání: 09.07.2010
Stran: 19
Země: Mezinárodní technická norma