JIS - Japonské technické normy

Strana 653

11691 nalezených produktů
Seřadit podle:
  • relevance
    • relevance
    • datum (nejnovější)
    • datum (nejstarší)
JIS K0154:2017 (21.8.2017)

JIS K0154:2017 (21.08.2017)

Surface chemical analysis -- Guidelines for preparation and mounting of specimens for analysis

Dostupné jazyky: Japonsky

Dostupné provedení: Elektronické PDF, Tištěné

od 72 915.00 CZK více informací
JIS K0155:2025 (20.5.2025)

JIS K0155:2025 (20.05.2025)

Surface chemical analysis-Secondary ion mass spectrometry-Linearity of intensity scale in single ion counting time-of-flight mass analysers

Dostupné jazyky: Japonsky

Dostupné provedení: Elektronické PDF, Tištěné

od 174 996.00 CZK více informací
JIS K0156:2018 (20.8.2018)

JIS K0156:2018 (20.08.2018)

Surface chemical analysis -- Secondary-ion mass spectrometry -- Method for depth calibration for silicon using multiple delta-layer reference materials

Dostupné jazyky: Japonsky

Dostupné provedení: Elektronické PDF, Tištěné

od 72 915.00 CZK více informací
JIS K0157:2021 (20.7.2021)

JIS K0157:2021 (20.07.2021)

Surface chemical analysis -- Secondary ion mass spectrometry -- Calibration of the mass scale for a time-of-flight secondary ion mass spectrometer

Dostupné jazyky: Japonsky

Dostupné provedení: Elektronické PDF, Tištěné

od 72 915.00 CZK více informací
JIS K0158:2021 (20.7.2021)

JIS K0158:2021 (20.07.2021)

Surface chemical analysis -- Secondary ion mass spectrometry -- Correction method for saturated intensity in single ion counting dynamic secondary ion mass spectrometry

Dostupné jazyky: Japonsky

Dostupné provedení: Elektronické PDF, Tištěné

od 72 915.00 CZK více informací
JIS K0159:2021 (22.11.2021)

JIS K0159:2021 (22.11.2021)

Surface chemical analysis -- Scanning-probe microscopy -- Determination of geometric quantities using SPM: Calibration of measuring systems

Dostupné jazyky: Japonsky

Dostupné provedení: Elektronické PDF, Tištěné

od 123 955.50 CZK více informací
JIS K0160:2026 (20.1.2026)

JIS K0160:2026 (20.01.2026)

Surface chemical analysis-Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy

Dostupné jazyky: Japonsky

Dostupné provedení: Elektronické PDF, Tištěné

od 174 996.00 CZK více informací
JIS K0161:2010 (20.4.2010)

JIS K0161:2010 (20.04.2010)

Surface chemical analysis -- Auger electron spectroscopy -- Description of selected instrumental performance parameters

Dostupné jazyky: Japonsky

Dostupné provedení: Elektronické PDF, Tištěné

od 63 193.00 CZK více informací
JIS K0162:2010 (20.4.2010)

JIS K0162:2010 (20.04.2010)

Surface chemical analysis -- X-ray photoelectron spectroscopy -- Description of selected instrumental performance parameters

Dostupné jazyky: Japonsky

Dostupné provedení: Elektronické PDF, Tištěné

od 63 193.00 CZK více informací
JIS K0163:2010 (20.4.2010)

JIS K0163:2010 (20.04.2010)

Surface chemical analysis -- Secondary-ion mass spectrometry -- Determination of relative sensitivity factors from ion-implanted reference materials

Dostupné jazyky: Japonsky

Dostupné provedení: Elektronické PDF, Tištěné

od 43 749.00 CZK více informací
Loading
Cookies Cookies

Potřebujeme Váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se Vám mimo jiné mohli ukazovat informace týkající se Vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.

Souhlas můžete odmítnout zde.

Zde máte možnost přizpůsobit si nastavení souborů cookies v souladu s vlastními preferencemi.

Potřebujeme Váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se Vám mimo jiné mohli ukazovat informace týkající se Vašich zájmů.