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JIS - Japanische technische Standards
Seite 653
JIS K0154:2017 (21.08.2017)
Surface chemical analysis -- Guidelines for preparation and mounting of specimens for analysis
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JIS K0155:2025 (20.05.2025)
Surface chemical analysis-Secondary ion mass spectrometry-Linearity of intensity scale in single ion counting time-of-flight mass analysers
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JIS K0156:2018 (20.08.2018)
Surface chemical analysis -- Secondary-ion mass spectrometry -- Method for depth calibration for silicon using multiple delta-layer reference materials
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JIS K0157:2021 (20.07.2021)
Surface chemical analysis -- Secondary ion mass spectrometry -- Calibration of the mass scale for a time-of-flight secondary ion mass spectrometer
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JIS K0158:2021 (20.07.2021)
Surface chemical analysis -- Secondary ion mass spectrometry -- Correction method for saturated intensity in single ion counting dynamic secondary ion mass spectrometry
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JIS K0159:2021 (22.11.2021)
Surface chemical analysis -- Scanning-probe microscopy -- Determination of geometric quantities using SPM: Calibration of measuring systems
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JIS K0160:2026 (20.01.2026)
Surface chemical analysis-Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
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JIS K0161:2010 (20.04.2010)
Surface chemical analysis -- Auger electron spectroscopy -- Description of selected instrumental performance parameters
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JIS K0162:2010 (20.04.2010)
Surface chemical analysis -- X-ray photoelectron spectroscopy -- Description of selected instrumental performance parameters
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JIS K0163:2010 (20.04.2010)
Surface chemical analysis -- Secondary-ion mass spectrometry -- Determination of relative sensitivity factors from ion-implanted reference materials
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