Potřebujeme Váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se Vám mimo jiné mohli ukazovat informace týkající se Vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Strana 652
Surface chemical analysis -- X-ray photoelectron spectrometers -- Calibration of energy scales
Dostupné jazyky: Japonsky
Dostupné provedení: Elektronické PDF, Tištěné
Surface chemical analysis -- Sputter depth profiling -- Optimization using layered systems as reference materials
Dostupné jazyky: Japonsky
Dostupné provedení: Elektronické PDF, Tištěné
Surface chemical analysis -- Vocabulary -- Part 1: General terms and terms used in spectroscopy
Dostupné jazyky: Japonsky
Dostupné provedení: Elektronické PDF, Tištěné
Surface chemical analysis -- Vocabulary -- Part 2: Terms used in scanning-probe microscopy
Dostupné jazyky: Japonsky
Dostupné provedení: Elektronické PDF, Tištěné
Surface chemical analysis-Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
Dostupné jazyky: Japonsky
Dostupné provedení: Elektronické PDF, Tištěné
Microbeam analysis -- Scanning electron microscopy -- Guidelines for calibrating image magnification
Dostupné jazyky: Japonsky
Dostupné provedení: Elektronické PDF, Tištěné
Surface chemical analysis -- Analysis of zinc- and/or aluminium-based metallic coatings by glow-discharge optical-emission spectrometry
Dostupné jazyky: Japonsky
Dostupné provedení: Elektronické PDF, Tištěné
Non-dispersive infrared gas analyzer
Dostupné jazyky: Anglicky, Japonsky
Dostupné provedení: Elektronické PDF, Tištěné
Surface chemical analysis -- X-ray photoelectron spectroscopy -- Repeatability and constancy of intensity scale
Dostupné jazyky: Japonsky
Dostupné provedení: Elektronické PDF, Tištěné
Surface chemical analysis -- Secondary-ion mass spectrometry -- Repeatability and constancy of the relative-intensity scale in static secondary-ion mass spectrometry
Dostupné jazyky: Japonsky
Dostupné provedení: Elektronické PDF, Tištěné